[实用新型]一种真空镀膜设备的供气装置有效

专利信息
申请号: 202020797231.0 申请日: 2020-05-14
公开(公告)号: CN212451605U 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 曹中华;何志飞;陈仕俊 申请(专利权)人: 深圳沃飞科技有限公司
主分类号: C23C14/22 分类号: C23C14/22
代理公司: 重庆卓茂专利代理事务所(普通合伙) 50262 代理人: 许冲
地址: 518000 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及真空镀膜附属设备技术领域,且公开了一种真空镀膜设备的供气装置,包括底座,所述底座的顶部固定安装有套筒。该真空镀膜设备的供气装置,通过四个供气瓶共同供气,相比单个气瓶供气,四个供气瓶将供气时间延长三至四倍,由四个分支气阀统一管理,当其中一个或两个供气瓶没有气或者气压不足时,仅需开启其他分支气阀,让其补充气压,从而保证供气的稳定性,以此避免镀膜时不均匀的问题,此外,换气的时候,先然后内胆,将没有气的供气瓶转到最低处,然后将连接头与接气管拧动分离,之后将弹簧锁扣打开,接着把封盖拿开,最后将没有气的供气瓶抽出并替换,然后盖上封盖即可,整个换气步骤十分省力,且换气简单。
搜索关键词: 一种 真空镀膜 设备 供气 装置
【主权项】:
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