[发明专利]一种双工作台曝光机的曝光方法有效
| 申请号： | 202011521970.8 | 申请日： | 2020-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN112631080B | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | 肖敏;廖绍良;夏天;张雷 | 申请（专利权）人： | 苏州源卓光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215026 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种双工作台曝光机的曝光方法，所述曝光机包括第一工作台和第二工作台，首先对同批次的基板正面曝光：将基板正面向上放置于任一工作台上，曝光机构在基板正面曝光图形，通过背面靶标装置在PCB板背面制作背面对位标记；再对该批次基板反面曝光：将基板背面向上放置于任一工作台上，对位机构抓取背面对位标记，控制机构根据所述背面对位标记的图形确定曝光补偿值，曝光机构根据控制机构确定的曝光补偿值在基板背面曝光图形。通过采用不同的背面对位标记实现反面曝光的精确补偿，使得正反面图形精确对准，满足高精度的应用需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双工 曝光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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