[发明专利]一种双路参数设定霍尔离子源控制系统在审
| 申请号： | 202011495545.6 | 申请日： | 2020-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN112626483A | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 赵学正;高军政;马文鹏;党亚军;任海军;张国同;陈新;罗鹏 | 申请（专利权）人： | 南阳清水科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/32;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京隆达恒晟知识产权代理有限公司 11899 | 代理人： | 时移 |
| 地址： | 473000 *** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双路参数设定霍尔离子源控制系统，包括：第一气体源、第二气体源、真空反应腔、钝化气体源、霍尔离子源；第一气体源通过第一管道与所述真空反应腔相连，第二气体源通过第二管道与所述真空反应腔相连，所述钝化气体源通过钝化气体输送管道与所述真空反应腔相连，所述第一管道、第二管道、钝化气体输送管道上均设置有电磁阀；所述霍尔离子源延伸至所述真空反应腔内部，所述电磁阀、控制器、无线收发器依次相连。采用本发明，可以实现对气体用量的监测及有效去除真空腔的杂质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 参数 设定 霍尔 离子源 控制系统 | ||
【主权项】：
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