[发明专利]一种光刻胶去胶液及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202011486530.3 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN112540515A | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 梁豹;方磊;杜冰;刘文永;邱柱;刘伟;张茂;张兵;赵建龙;向文胜;朱坤;陆兰 | 申请（专利权）人： | 江苏艾森半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻胶去胶液及其制备方法和应用，所述光刻胶去胶液以重量份数计包括氢氧化季铵0.5‑10份、有机溶剂65‑85份、有机醇胺1‑20份、有机醇0.1‑5份、金属保护剂0.01‑5份和阻蚀剂0.1‑5份。本发明提供的光刻胶去胶液去胶速度快、去胶能力强，在较低温度都能保持去胶性能，而且降低了对金属、硅、氧化硅、钝化等各种底材的腐蚀，延长了工作时间，水溶性好，容易清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 胶去胶液 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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