[发明专利]光刻胶涂布装置在审
| 申请号： | 202011483346.3 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN112558418A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 李波;刘小虎 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶涂布装置，所述光刻胶喷涂装置包括晶圆承载台、驱动装置、晶圆容置装置、光刻胶喷头、溶剂喷头和吸附垫；所述晶圆容置装置用于容置所述晶圆承载台，所述晶圆承载台用于放置晶圆；所述驱动装置与所述晶圆承载台连接以驱动所述晶圆承载台旋转；所述光刻胶喷头位于所述晶圆承载台上方，用于向晶圆喷涂光刻胶；所述溶剂喷头位于所述晶圆承载台上方，用于向所述晶圆边缘喷射溶剂，所述溶剂用于溶解所述光刻胶；所述吸附垫设置在所述晶圆容置装置内壁，并对准所述晶圆边缘，所述吸附垫用于吸附喷溅的所述溶剂；该装置能够有效去除光刻胶在晶圆边缘的隆起，且去除过程中有效避免晶圆表面产生缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 胶涂布 装置 | ||
【主权项】：
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