[发明专利]一种Cu/Cu2有效

专利信息
申请号: 202011472024.9 申请日: 2020-12-14
公开(公告)号: CN112517004B 公开(公告)日: 2022-08-09
发明(设计)人: 安涛;魏文龙;纪全增;韩纪发;张巍;李爽 申请(专利权)人: 长春大学
主分类号: B01J23/72 分类号: B01J23/72;B01J37/34;C02F1/30;C02F101/36;C02F101/38
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 王术娜
地址: 130022 *** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明属于光催化技术领域,具体涉及一种Cu/Cu2O复合薄膜及其制备方法和应用。本发明提供了一种Cu/Cu2O复合薄膜的制备方法,包括以下步骤:在Ar和O2的混合气氛中,以Cu单质作为靶材,进行掠入射磁控溅射,得到所述Cu/Cu2O复合薄膜;所述掠入射磁控溅射的掠射角为45~55°。本发明采用掠入射磁控溅射方法成功制备了Cu/Cu2O复合薄膜,复合薄膜呈颗粒状形貌,颗粒间空隙较大,Cu/Cu2O复合薄膜的这种分散的颗粒状形貌,使其具有较大的比表面积,有利于光生载流子的传递和催化性能的增强。
搜索关键词: 一种 cu base sub
【主权项】:
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