[发明专利]半导体产品的良率分析方法及良率分析系统

摘要

本发明提供一种半导体产品的良率分析方法及良率分析系统，包括对过站资料的良率数据进行差异性分析，对量测资料及炉管位置资料的良率数据进行相关性分析，得到各个制程站点过站资料、量测资料及炉管位置资料的指标，并采用信息熵对过站资料、量测资料及炉管位置资料赋予权重，以获得到各制程站点的关键影响因素及各制程站点的综合指标。本发明可用于对影响半导体产品质量的根本原因从数据角度进行查找，使分析结果更加准确，提高了分析效率，并及时调整参数和实验，提高良率，降低成本。