[发明专利]具有改进结构的NiW(X)溅射靶在审
| 申请号： | 202011308216.6 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN112831760A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | M·舒尔特斯;M·施洛特 | 申请（专利权）人： | 万腾荣先进材料德国有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C4/134;C23C4/08;C23C4/16;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 李雪芹;严彩霞 |
| 地址： | 德国阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种溅射靶，该溅射靶包含Ni、W和任选的一种或多种选自难熔金属、Sn、Al和Si的另外的金属X，其具有0.4以上的归一化的峰强度比PIR＝I |
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| 搜索关键词： | 具有 改进 结构 niw 溅射 | ||
【主权项】：
暂无信息
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