[发明专利]光学邻近校正方法在审
| 申请号： | 202011307961.9 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN112415847A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 董明 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人： | 高园园 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种光学邻近校正方法，包括如下步骤：提供包括阵列区域和非阵列区域的光掩膜版图设计，阵列区域包括多个至少一种重复图形；对阵列区域进行第一光学邻近校正，在多个重复图形中选择一个作为特征图形进行光学邻近校正，将其光学邻近校正结果应用于其他重复图形；对非阵列区域进行第二光学邻近校正，对每个图形一一进行光学邻近校正。本发明针对阵列区域和非阵列区域分别进行第一光学邻近校正和第二光学邻近校正，有效减少了阵列区域中重复图形之间的特征尺寸波动，改善了晶圆面内特征尺寸的均匀性，提升了器件良率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 邻近 校正 方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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