[发明专利]一种用于坩埚中粉料平整与孔隙率控制的装置与方法在审
| 申请号： | 202011278313.5 | 申请日： | 2020-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN112408004A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | B65G69/02 | 分类号： | B65G69/02 |
| 代理公司： | 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙) 23209 | 代理人： | 李晓敏 |
| 地址： | 150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种粉料平整与孔隙率控制的装置与方法，属于坩埚辅助设备技术领域。为解决现有粉料压平方法无法控制孔隙率的问题，本发明提供了一种用于坩埚中粉料平整与孔隙率控制的装置，包括：固定结构、滑动杆、固定环、压盘和配重块，固定结构包括圆环和固定臂，固定臂环形阵列安装在圆环的外侧，滑动杆贯穿于固定结构的圆环内，滑动杆的底部与压盘连接，滑动杆的顶部与配重块连接，滑动杆上加工有刻度，固定环嵌套在滑动杆外。本发明根据坩埚的尺寸及粉料的情况计算下压长度，再通过调整固定环在滑动杆上的位置，确定压盘的下压长度，通过配重块的重力使得压盘下压完成压粉，定量的控制了坩埚反应中粉料的孔隙率与平整度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 坩埚 中粉料 平整 孔隙率 控制 装置 方法 | ||
【主权项】：
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