[发明专利]半导体工艺设备的副产物处理装置及半导体工艺设备有效
| 申请号： | 202011267623.7 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN112604383B | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 姚晶;谢远祥;韩子迦 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | B01D45/08 | 分类号： | B01D45/08;H01L21/56 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种半导体工艺设备的副产物处理装置及半导体工艺设备，半导体工艺设备的副产物处理装置包括冷却组件和分离组件，其中，冷却组件与半导体工艺设备的工艺腔室的排出口连通，用于对自排出口排出至其中的副产物进行冷却，得到液态物和气态物；分离组件与冷却组件连通，用于对进入其中的液态物和气态物进行分离，且使分离后的液态物和气态物分别排出。本发明提供的半导体工艺设备的副产物处理装置及半导体工艺设备，能够对副产物中的气液进行分离，以满足环保要求。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工艺设备 副产物 处理 装置 | ||
【主权项】：
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