[发明专利]一种用于硫系薄膜原位光退火的装置及方法在审
| 申请号： | 202011265833.2 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN112323038A | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 张斌;高铭祺;李朝晖;杨泽林;吴家越 | 申请（专利权）人： | 中山大学 |
| 主分类号： | C23C14/58 | 分类号： | C23C14/58;C23C14/06 |
| 代理公司： | 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 | 代理人： | 李思坪 |
| 地址： | 510275 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于硫系薄膜原位光退火的装置及方法，该装置包括真空腔室、转轴、驱动马达、旋转臂和光源组件，所述真空腔室内底部设有蒸发源，所述真空腔室内顶部设有用于固定衬底的基台，所述转轴设于真空腔室内的侧壁上，所述驱动马达设于转轴的内部，所述旋转臂一端与转轴连接，所述旋转臂的另一端与光源组件连接，所述光源组件设于旋转臂的末端。该方法包括：制备硫系薄膜；使光源组件与基底平行；通过LED阵列对硫系薄膜进行连续光照。通过使用本发明，解决了硫系薄膜在异位退火时易被空气氧化和污染以及热退火使薄膜在后续加工中破裂的问题。本发明作为一种用于硫系薄膜原位光退火的装置及方法，可广泛应用于真空蒸镀领域及光退火领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 薄膜 原位 退火 装置 方法 | ||
【主权项】：
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