[发明专利]一种高低温锥光干涉测量装置及方法在审
| 申请号： | 202011246097.6 | 申请日： | 2020-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN112378862A | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 商继芳;杨金凤;郝好山;周以琳;苏丽霞 | 申请（专利权）人： | 河南工程学院 |
| 主分类号： | G01N21/23 | 分类号： | G01N21/23;G01N21/21;G01N21/45 |
| 代理公司： | 郑州优盾知识产权代理有限公司 41125 | 代理人： | 王红培 |
| 地址： | 451191 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种高低温锥光干涉测量装置及方法，包括使一束可见波段的激光依次通过置于高低温试验箱中的两个45°放置的平面反射镜、起偏镜、毛玻璃、待测晶体、检偏镜，然后经观察窗口射出后用透射光屏接收透射光点和锥光干涉图样。利用五维精密调节架调节激光入射方向，利用透射光点在锥光干涉图样中的位置指示激光入射方向，通过调节使透射光点位于锥光干涉图样的对称中心，此时激光垂直于待测晶体的端面入射；通过平移激光器，可以观察晶体通光截面内不同区域的锥光干涉图样。本发明能够测量双折射晶体在不同温度下的锥光干涉图样，对晶体在高低温下的双折射特性、光学均匀性等光学性质进行研究，具有操作简单、调试方便、结果直观等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低温 干涉 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
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