[发明专利]磁场屏蔽结构在审
| 申请号： | 202011187628.9 | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN112867376A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 吉川雅之;一之瀬健一;小里和久;西村宏行;加藤英俊 | 申请（专利权）人： | 丰田自动车株式会社 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 姜克伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供一种磁场屏蔽结构。在磁场屏蔽结构(10)中，以与产生磁场的电机(14)对置的方式配置有屏蔽薄片(30)。该屏蔽薄片(30)具有高导磁率薄片(34)和低导磁率薄片(36)层叠而成的成对层(32A)。该屏蔽薄片(30)以高导磁率薄片(34)位于相对于低导磁率薄片(36)的电机(14)侧也就是磁场产生源侧的姿态而被配置。 | ||
| 搜索关键词： | 磁场 屏蔽 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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