[发明专利]一种自动离焦校正的傅里叶叠层显微成像方法在审

专利信息
申请号: 202011180821.X 申请日: 2020-10-29
公开(公告)号: CN112233040A 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 左超;张晓磊;沈德同 申请(专利权)人: 南京理工大学智能计算成像研究院有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T3/40;G02B21/36
代理公司: 北京翔瓯知识产权代理有限公司 11480 代理人: 向维登
地址: 210000 江苏省南京市建邺*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提出了一种自动离焦校正的傅里叶叠层显微成像方法,通过提出的一种新的聚焦评价函数——图像偏移量,采用倾斜照明下离焦图像信息的偏移量进行离焦量评估。本发明是一种适合于傅里叶叠层显微成像模式的重聚焦方式,根据图像离焦偏移量进行判断更符合该系统的成像机制,重聚焦准确快速;在样品未处于焦平面上时,也可以利用拍摄到的图像在傅里叶叠层显微成像前进行自动的离焦校正。本发明不需任何机械扫描装置,结构简单,造价便宜,可实现快速的大视场超分辨。
搜索关键词: 一种 自动 校正 傅里叶叠层 显微 成像 方法
【主权项】:
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