[发明专利]一种具有缺陷g-C3在审

专利信息
申请号: 202011152023.6 申请日: 2020-10-23
公开(公告)号: CN112246272A 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 邢伟男;张亭亭;邹景卉;张玉婧;熊若帆;徐洲洲;肖雅楠;贺伟;吴光瑜;韩建刚;李萍萍 申请(专利权)人: 南京林业大学
主分类号: B01J27/24 分类号: B01J27/24;B01J37/08;C02F1/30;C02F101/30
代理公司: 南京申云知识产权代理事务所(普通合伙) 32274 代理人: 邱兴天
地址: 210037 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种具有缺陷g‑C3N4纳米片光催化剂的制备方法,属于半导体光催化材料制备的技术领域。该方法包括以下步骤:1)称取三聚氰胺,放置于坩埚中,在马弗炉中升温煅烧,500‑580℃煅烧1‑6h,冷却至室温,研磨成粉末;2)取步骤1)获得的粉末样品,放置于磁舟中,在马弗炉中再次升温煅烧,480‑620℃煅烧1‑6h,冷却至室温,研磨成粉末,得到具有缺陷g‑C3N4纳米片光催化剂。本申请通过调控温度将块状g‑C3N4剥离为纳米片并构建缺陷,使其具有更高的光催化性能。制备方法操作简单,重复性高,制备得到的具有缺陷的g‑C3N4纳米片光催化剂对于染料、抗生素的降解都表现出了较高的降解活性。
搜索关键词: 一种 具有 缺陷 base sub
【主权项】:
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