[发明专利]一种非厄米调制下二维光子晶体的拓扑态结构有效

专利信息
申请号: 202011144991.2 申请日: 2020-10-23
公开(公告)号: CN112285822B 公开(公告)日: 2022-06-17
发明(设计)人: 朱宇光 申请(专利权)人: 常州工业职业技术学院;常州宇宏电气有限公司
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02;G02B27/00
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 顾伯兴
地址: 213164 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明所述的一种非厄米调制下二维光子晶体的拓扑态结构,包括由多层晶胞排列组成的拓扑非平庸层、缺陷层和拓扑平庸层,依次按照拓扑非平庸层、缺陷层、拓扑平庸层、缺陷层、拓扑非平庸层的顺序排列构成。本发明所述的有益效果为:设计具有PT对称构型的二维光子晶体,通过增益系数的改变,实现拓扑相变;构建了由拓扑非平庸结构和拓扑平庸结构形成的边界态,该边界态具有拓扑相和非厄米调制的双重特征;通过源位置的选择,可以让拓扑相调制和非厄米调制分别发挥作用,两者均可以激发单向传输。
搜索关键词: 一种 非厄米 调制 二维 光子 晶体 拓扑 结构
【主权项】:
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