[发明专利]气体供给系统、基板处理装置和气体供给系统的控制方法在审
| 申请号： | 202011144922.1 | 申请日： | 2020-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN112786424A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 泽地淳;网仓纪彦 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种气体供给系统、基板处理装置和气体供给系统的控制方法，抑制吹扫气体向配管的上游侧的逆流。气体供给系统具有：配管，其供基板处理所使用的处理气体流通；吹扫气体导入管，其与配管连接并且向配管导入吹扫气体；第1阀，其设于配管的比与吹扫气体导入管连接的连接点靠上游侧的位置；第2阀，其设于配管的比第1阀靠上游侧的位置；以及控制部，其在使处理气体向配管流通的情况下，将第1阀以及第2阀维持为开状态，并且在将在配管内流通的气体自处理气体向吹扫气体切换的情况下，将第1阀以及第2阀自开状态向闭状态切换。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 供给 系统 处理 装置 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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