[发明专利]基于二次刻蚀法制备高刻蚀率和高剥离率的少层Ti3

摘要

本发明公开了基于二次刻蚀法制备高刻蚀率和高剥离率的少层Ti3C2Tx材料的方法，具体包括以下步骤：Ti3AlC2经HF水溶液预刻蚀得到预刻蚀产物；配置LiF和HCl反应后形成的盐溶液作为二次刻蚀剂；将预刻蚀产物浸没在二次刻蚀剂中进行二次刻蚀得到二次刻蚀产物；二次刻蚀产物经处理得到高刻蚀率和高剥离率的少层Ti3C2Tx材料。本发明基于二次刻蚀法制备高刻蚀率和高剥离率的少层Ti3C2Tx材料的方法实现了少层Ti3C2Tx在水溶液中的高效剥离与分散，无需后期对Ti3C2Tx进行长时间超声剥离，提高了少层Ti3C2Tx的制备效率和产品性能，扩大了少层Ti3C2Tx的功能化应用范围。