[发明专利]光学元件多模态原位缺陷测量装置和测量方法在审
| 申请号： | 202011014593.9 | 申请日： | 2020-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN112229606A | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 刘世杰;倪开灶;邹超逸;邵建达;王微微;李英甲 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01N21/95 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出了一种光学元件多模态原位缺陷测量装置和测量方法，包括泵浦激发系统、散射照明系统、吸收探测系统、光致发光探测系统、发光光谱探测系统和散射探测系统。本发明基于光学元件加工过程中产生的各类缺陷的吸收、光致发光和散射效应实现了不同类型缺陷原位测量，解决了单一测量技术漏检，不同测量装置之间错位测量、表征不准确的问题，根据缺陷的发光光谱可以判定缺陷物质类型，能够更准确评价同一位置的缺陷性质，为客观完整地评价光学元件加工质量提供有力支撑。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 多模态 原位 缺陷 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011014593.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
