[发明专利]一种调控钒薄膜择优取向性的方法在审
| 申请号： | 202010884112.3 | 申请日： | 2020-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN112030126A | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 章嵩;郑龙;涂溶 | 申请（专利权）人： | 气相科技（武汉）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/54 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 崔友明;官群 |
| 地址： | 430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区理*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种调控钒薄膜择优取向性的方法，采用非平衡磁控溅射的方法，通过调控沉积气压和溅射功率的条件，分别得到110、211、111取向的金属钒薄膜。本发明操作简单，采用非平衡磁控溅射方法，仅通过调控沉积气压和溅射功率即可得到具有不同择优取向性的金属钒薄膜，方法重复性好，对于制备及开发应用特定择优取向的金属钒薄膜具有重要意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调控 薄膜 择优 向性 方法 | ||
【主权项】：
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