[发明专利]一种钕铝靶材溅射面的抛光工艺在审
| 申请号： | 202010819721.0 | 申请日： | 2020-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN111958333A | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;窦兴贤;王学泽;王青松;刘明健 | 申请（专利权）人： | 合肥江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种钕铝靶材溅射面的抛光工艺，所述抛光工艺包括依次进行的第一机械抛光、第二机械抛光、第三机械抛光和第四机械抛光；所述第一机械抛光中所用的砂带为320#白刚玉砂带；所述第二机械抛光中所用的砂带为400#白刚玉砂带；所述第三机械抛光中所用的砂带为600#白刚玉砂带；所述第四机械抛光采用800#白刚玉砂带。本发明通过对靶材溅射面抛光工艺的重新设计使得靶材溅射面的表面应力分布均匀，并且在溅射过程中不存在异常放电等问题，粗糙度稳定在0.4‑0.7μm，保证了产品的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 钕铝靶材 溅射 抛光 工艺 | ||
【主权项】：
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