[发明专利]一种光学圆锥研磨抛光装置、方法有效
| 申请号： | 202010776279.8 | 申请日： | 2020-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN112059812B | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 鲍振军;杨李茗;朱衡;李智钢;蔡红梅;崔建朋;周衡 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00;B24B5/14;B24B29/04;B24B49/00;B24B45/00 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人： | 封浪 |
| 地址： | 621900 四川省绵*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明属于光学器件加工领域，公开了一种光学圆锥研磨抛光装置、方法。装置包括支撑架、活动机构、顶针、平面抛光盘和抛光盘电机；活动机构安装于支撑架上，活动机构具备两个活动自由度：端部旋转的第一自由度，以及旋转中心与端部旋转轴相垂直的第二自由度；活动机构的端部用于连接待加工圆锥；顶针位于活动机构端部的旋转轴在第二自由度内活动的平面内；平面抛光盘与顶针万向连接，顶针与抛光盘电机轴连接，平面抛光盘表面设置有抛光材料层。将圆锥连接于活动机构轴端，并将圆锥轮廓线调至水平，以绕圆锥轴线成螺旋线的轨迹对其进行抛光，圆锥转速根据平面抛光盘承受的压力、平面抛光盘的移动速度、转速、摆动速度及幅度进行控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 圆锥 研磨 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
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