[发明专利]一种克服激光微区原位测试中空间位置效应的多靶位剥蚀装置有效
申请号: | 202010766686.0 | 申请日: | 2020-08-03 |
公开(公告)号: | CN111896527B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 高伟;黄运泽;刘峥;孔嘉康;史光宇 | 申请(专利权)人: | 武汉上谱分析科技有限责任公司 |
主分类号: | G01N21/73 | 分类号: | G01N21/73;G01N27/62;B23K26/70;H01J49/04 |
代理公司: | 武汉诚儒知识产权代理事务所(普通合伙) 42265 | 代理人: | 刘天钰 |
地址: | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区北斗路6号武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供了一种克服激光微区原位测试中空间位置效应的多靶位剥蚀装置,包括样品台、激光头以及剥蚀池,剥蚀池通过连接杆固定于激光头的正下方,剥蚀池为中空的结构,剥蚀池顶部开口处密封安装有供激光穿过的透明窗,其内部腔室由隔环分为内外两层,内层为剥蚀腔,外层为真空腔,剥蚀腔的两侧分别设置有进气管和出气管,真空腔的侧壁上设置有抽真空口并与真空发生器相连接;所述样品台安装于三轴位移平台上,样品台为双层板式结构。该多靶位剥蚀装置不仅具备多个靶位,且各靶位之间切换方便,同时利用真空实现对剥蚀池的密封,能够保证剥蚀池整体的密封性。最重要的是,该多靶位剥蚀装置能够克服激光微区原位测试中空间位置效应。 | ||
搜索关键词: | 一种 克服 激光 原位 测试 空间 位置 效应 多靶位 剥蚀 装置 | ||
【主权项】:
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