[发明专利]基于萘环的精确自降解两亲性嵌段寡聚物、合成方法及其应用有效
| 申请号： | 202010722020.5 | 申请日： | 2020-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN111848947B | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 刘世勇;吕长柱 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | C08G65/48 | 分类号： | C08G65/48;C07C271/30;C07C269/02;C08G83/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 关旭颖 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及基于萘环的精确自降解两亲性嵌段寡聚物、合成方法及其应用。具体地，本发明基于触发式自降解聚合物设计了具有不同聚合度的分子量精确的两亲性嵌段寡聚物。利用慢加水的方式进行组装，依靠萘环之间的Π‑Π相互作用和氨基甲酸酯之间的氢键相互作用，通过改变聚合度，可以得到不同的高级形貌结构。并且由于引入不对称结构(萘环)，可以得到具有螺旋结构的组装形貌。引入光响应触发基元后，在相应波长光的照射下，形成的组装结构可以发生解体。该寡聚物具有单一的分子量，组装体疏水部分是含有萘环的自降解基元，相对于传统苯环的自降解基元可以更加快速的降解。这种寡聚物还可用于制备单分子型光刻胶，得到特征尺寸更加小且均一的微结构。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 精确 降解 两亲性嵌段寡聚物 合成 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
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