[发明专利]激光干涉光刻中光束入射角的调控装置及方法有效
| 申请号： | 202010636098.5 | 申请日： | 2020-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN111812948B | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 王磊杰;朱煜;张鸣;成荣;杨月舳;李鑫;杨开明 | 申请（专利权）人： | 清华大学;北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李玉琦;曹素云 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种激光干涉光刻中光束入射角度的调控装置及方法，装置包括：分光棱镜、第一解耦透镜、第一位置检测器和反馈控制系统，其中，分光棱镜位于第一透镜和第二透镜之间；第一解耦透镜位于第一位置检测器与分光棱镜之间，反馈控制系统与第一位置检测器和第一万向反射镜连接；分光棱镜用于对经第一万向反射镜的第一入射光进行反射，第一解耦透镜用于将分光棱镜的第一反射光入射至第一位置检测器，第一位置检测器用于对光束位置进行测量，并将测量结果传输至反馈控制系统，反馈控制系统根据测量结果输出控制指令，调整第一万向反射镜的镜座，从而对曝光光束的入射角度进行调控。本发明可以对光束入射角度进行精确调控。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 干涉 光刻 光束 入射角 调控 装置 方法 | ||
【主权项】：
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