[发明专利]一种真空溅射镀膜及其工艺在审
| 申请号： | 202010633421.3 | 申请日： | 2020-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN111607773A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 李均平;贾祥文;韩阳;张威;邹健 | 申请（专利权）人： | 苏州锐世讯光学科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/14;C23C14/08;C23C14/54 |
| 代理公司： | 苏州彰尚知识产权代理事务所(普通合伙) 32336 | 代理人： | 赵成磊 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市相城区黄桥*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
一种真空溅射镀膜及其工艺，包括基片和镀膜机，镀膜机内设有镀膜靶材，镀膜靶材包括：Si、ITO和Li |
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| 搜索关键词： | 一种 真空 溅射 镀膜 及其 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
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