[发明专利]一种用于单晶硅生长炉的薄膜隔热片及单晶硅生长炉有效
| 申请号： | 202010625055.7 | 申请日： | 2020-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN111893558B | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 魏星;魏涛;李名浩;栗展;刘赟;薛忠营 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海新昇半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/00 | 分类号： | C30B15/00;C30B29/06 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;贾允 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于单晶硅生长炉的薄膜隔热片，包括第一折射层和第二折射层，所述第一折射层的折射率与所述第二折射层的折射率不同，所述第一折射层和所述第二折射层相互交替形成层叠结构，所述第一折射层和与之相邻设置的第二折射层相贴合；在此基础上，本发明还提供一种单晶硅生长炉，所述薄膜隔热片设置在所述单晶硅生长炉中的热屏上；本发明提供一种用于单晶硅生长炉的薄膜隔热片，在热辐射波长范围内具有良好的反射性能，当将其设置在热屏上以应用于单晶硅生长炉中时，能够提高热屏对热能的反射能力，降低熔融的硅熔体热量的耗散，提高热能利用率；并且有利于热场的保温性能，从而有利于提高热场的质量以提高单晶硅生长的质量和产量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 单晶硅 生长 薄膜 隔热 | ||
【主权项】：
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