[发明专利]一种X射线聚焦光学镜片反射率标定系统及方法有效

专利信息
申请号: 202010623233.2 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN111896227B 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 左富昌;梅志武;邓楼楼;周昊;贺盈波;石永强 申请(专利权)人: 北京控制工程研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 任林冲
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种X射线聚焦光学镜片反射率标定方法,包括光学镜片安装、标准探测器与光阑安装、抽真空、标定前调节光学镜片、打开单能X射线源、记录不同入射点、不同掠入射角、不同能点下前端标准探测器和后端标准探测器的电流值等主要步骤,最后得到光学镜片圆周方向上4~8个点的反射率曲线标定。本发明通过将光学镜片安装于可在真空状态下工作的二维调节机构上,实现了真空状态下光学镜片的在线调节,避免了光学镜片的反复拆装和测试腔体的反复抽真空与放气,大大提高了标定效率。
搜索关键词: 一种 射线 聚焦 光学镜片 反射率 标定 系统 方法
【主权项】:
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