[发明专利]光罩和光罩信息读取方法在审
申请号: | 202010611422.8 | 申请日: | 2020-06-30 |
公开(公告)号: | CN111830780A | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 李玉华;吴长明;姚振海;金乐群;黄发彬 | 申请(专利权)人: | 华虹半导体(无锡)有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38;G03F7/20;G06K7/14 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 214028 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开一种光罩和光罩信息读取方法,涉及半导体集成电路制造技术领域。其中光罩包括条形码区域,条形码区域中包括:主体读取图案、起始读取图案和终止读取图案。其中方法包括至少以下步骤:确定如本申请第一方面光罩中的条形码区域;使用检测光沿着特定方向扫描条形码区域;将条形码区域中的光罩信息转换为具有强弱交替变化,和强弱持续时间变化的透射光信号;将透射光信号转换为具有高低电平交替变化,和高低电平持续时间变化的电脉冲信号;对电脉冲信号整形为脉冲数字信号;确定脉冲数字信号中的起始信号和终止信号;以起始信号为开始对脉冲数字信号在时域上依次转换成字符,直至终止信号。能够解决相关技术出现读取信息无法识别的问题。 | ||
搜索关键词: | 信息 读取 方法 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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