[发明专利]一种高活性糖修饰卤氧化铋光催化材料的通用合成方法在审
| 申请号： | 202010598933.0 | 申请日： | 2020-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN111921542A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 王学文;张阳;周程喜;张荣斌 | 申请（专利权）人： | 南昌大学 |
| 主分类号： | B01J27/06 | 分类号： | B01J27/06;B01J35/10;C02F1/30;C02F1/72;C01G29/00;C02F101/30;C02F101/34 |
| 代理公司： | 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 | 代理人： | 牛永山 |
| 地址： | 330000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明涉及光催化降解领域，此发明提供了一种高活性糖修饰卤氧化铋的通用合成方法。通过对光催化剂的表面进行修饰从而调控催化剂的价带位置降解污染物，解决了光催化半导体价带氧化能力弱、光生电子与空穴容易发生复合的问题，大大提高了光催化降解效率。具体制备方法如下：将不同的糖(葡萄糖、果糖、乳糖、蔗糖、麦芽糖)溶于一定量水中，搅拌形成糖溶液。再加入五水硝酸铋室温下搅拌一定时间，然后将氯化钾(溴化钾、碘化钠)溶液倒入上述溶液中，室温下搅拌，最后倒掉上清液，沉淀用去离子水洗涤数次，80℃下干燥12h收集固体粉末儿。使用该方法制备的卤氧铋具有高氧化能力，能够快速降解苯酚及有机污染物。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 活性 修饰 氧化 光催化 材料 通用 合成 方法 | ||
【主权项】：
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