[发明专利]一种等离子化学气相沉积设备有效
申请号: | 202010598539.7 | 申请日: | 2020-06-28 |
公开(公告)号: | CN111575680B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 闵卿旭 | 申请(专利权)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/509 |
代理公司: | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人: | 黄俊 |
地址: | 065500 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种等离子化学气相沉积设备,由于下部电极上存在磨损速度不同的多个电极区域,通过将下部电极的绝缘层也划分为多个绝缘区域,该多个绝缘区域与磨损速度不同的多个电极区域对应且多个绝缘区域的绝缘特性不同,即根据多个电极区域的磨损速度设置对应的绝缘特性的绝缘区域,以尽量减小下部电极的多个电极区域的磨损程度差异,从而提高了下部电极的磨损一致性,避免因局部磨损过快而导致的斑点等不良的产生,同时也能有效延长下部电极的使用寿命,避免频换新的下部电极所带来的成本增加。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的