[发明专利]测量微光刻的掩模的装置和自聚焦方法在审
| 申请号： | 202010593805.7 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN112147858A | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | M.莱恩格勒 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G02B7/28;G02B21/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于使用成像装置(2)测量微光刻的掩模(3)的装置(30)，其中成像装置(2)包括：‑成像光学单元(9)，具有焦平面(20)，用于成像掩模(3)，‑物平台(11)，用于安装掩模(3)，‑移动模块(18)，用于在物平台(11)与成像光学单元(9)之间产生相对移动，以及‑自聚焦装置(1)，用于通过与焦平面(20)相交的聚焦像平面(19)中的聚焦结构(13)的成像来生成聚焦像，其中该聚焦结构(13)实施为间隙(21，21′，21″)。此外，本发明涉及测量微光刻的掩模(3)的装置(30)的自聚焦方法。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 微光 装置 自聚焦 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司，未经卡尔蔡司SMT有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010593805.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
