[发明专利]平面图合成方法、装置、存储介质及电子设备在审
| 申请号： | 202010585162.1 | 申请日： | 2020-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN111739122A | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 王少华;张昌平;刘长明;刘盼华;张菊如 | 申请（专利权）人： | 武汉数文科技有限公司 |
| 主分类号： | G06T11/20 | 分类号： | G06T11/20 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 唐菲 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区武大*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种平面图合成方法、装置、存储介质及电子设备，涉及考古绘图技术领域，该方法包括：基于开口线关键点绘制开口线，并根据开口线进行线条提取，以获得开口线平面合成图；基于开口线提取各个单遗迹平面图的单遗迹坐标，并基于单遗迹平面图坐标在目标坐标系中对各个单遗迹平面图进行定位和平移，以获得合并平面图；对合并平面图中的开口线进行空间位置属性的设置以得到合并分层平面图；基于设置的空间位置属性对合并分层平面图中指定的开口线进行转换，以得到所有单遗迹平面图的平面合成图。本申请能够基于开口线批量提取各个单遗迹平面图的单遗迹坐标并进行定位和平移及叠压或打破分析，提高得到平面合成图的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 平面图 合成 方法 装置 存储 介质 电子设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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