[发明专利]可调控光学模态的雷射结构的制造方法在审

专利信息
申请号: 202010577650.8 申请日: 2020-06-23
公开(公告)号: CN112993749A 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 杨英杰 申请(专利权)人: 元光科技股份有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/187
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 何为;袁颖华
地址: 中国台湾台北市信*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种可调控光学模态的雷射结构的制造方法,是在基板上以蒸镀、溅镀或磊晶法依序成长第一分布式布拉格反射镜(DBR)、发光层、第二分布式布拉格反射镜以及第三分布式布拉格反射镜,该第三分布式布拉格反射镜由单层或多层介电质组成,并在该第三分布式布拉格反射镜中央或周围区域经选择性蚀刻出一开口(Aperture)结构。本发明将该开口结构实现于整体雷射结构顶端的第三分布式布拉格反射镜的介电质结构中,可透过控制开口的直径或面积以及介电质晶层数目以调控雷射结构所产生的光学模态,进而改变发散角度,令其发散角度变小(小于15度),可使得远场发光呈现均匀的强度分布,以及增大在光纤中传输距离。
搜索关键词: 调控 光学 雷射 结构 制造 方法
【主权项】:
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