[发明专利]非晶态CrSiCN涂层及其制备方法、应用、导电膜和电子设备有效
| 申请号： | 202010567004.3 | 申请日： | 2020-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN111850486B | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 王强;晏柱;薛涛 | 申请（专利权）人： | 维达力实业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/54;C23C14/02;C23C14/18;A61B5/0245;A61B5/263 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 马小悦 |
| 地址： | 518129 广东省深圳市龙岗区坂田街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种非晶态CrSiCN涂层及其制备方法、应用和导电膜；其中，非晶态CrSiCN涂层的制备方法中，真空条件下，采用CrSi合金靶为靶材，通入惰性气体、C |
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| 搜索关键词： | 晶态 crsicn 涂层 及其 制备 方法 应用 导电 电子设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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