[发明专利]一种兼具选择性及光热抗菌性能的纳米片层、制备方法及其应用有效

专利信息
申请号: 202010557811.7 申请日: 2020-06-18
公开(公告)号: CN111569074B 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 李飞;付爽;刘俊秋 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: A61K41/00 分类号: A61K41/00;A61P31/04;B82Y5/00;B82Y40/00;C07D519/00
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 刘世纯
地址: 130012 吉林省长春市*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明公开了一种兼具选择性及光热抗菌性能的纳米片层、制备方法及其应用,属于抗菌生物材料技术领域,本发明所述的抗菌纳米片层由二甲氧基柱[5]芳烃与苝二酰亚胺衍生物以共价组装方式形成,苝基团在大肠杆菌的特异性作用下可以被还原为自由基阴离子,自由基阴离子在808nm近红外光的照射下,将光能转换为热能,使得局部温度升高,实现光热抗菌。本发明利用共价组装的方式,制备出可以选择性被大肠杆菌还原的纳米片层,其与细菌结合能力强,被还原后具有良好光热转换效果,构建出稳定高效安全的具有光热效果的抗菌体系,且不易使细菌产生耐药性;本发明所需的原料易得、成本适中、制备步骤简单易行。
搜索关键词: 一种 兼具 选择性 光热 抗菌 性能 纳米 制备 方法 及其 应用
【主权项】:
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