[发明专利]一种图案化纳米阵列模板及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202010466833.2 | 申请日： | 2020-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN111438859A | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 黄璐 | 申请（专利权）人： | 中山大学 |
| 主分类号： | B29C33/38 | 分类号： | B29C33/38 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 许庆胜 |
| 地址： | 510275 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请属于纳米阵列材料的技术领域，尤其涉及一种图案化纳米阵列模板及其制备方法和应用。本申请提供了一种图案化纳米阵列模板，包括微米通孔模板层和纳米孔模板层；所述微米通孔模板层的微米通孔的孔径为5～30μm；所述微米通孔模板层的微米通孔按照图案化排列；所述纳米孔模板层的纳米孔的孔径为10～300nm；所述微米通孔模板层可拆卸性固定在所述纳米孔模板层的纳米孔面上。本申请的图案化纳米阵列模板能制得具备特定图案和不同尺寸的阵列结构，有效解决现有的纳米孔阵列模板法只能制备无图案的、尺寸单一的纳米柱阵列的技术缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图案 纳米 阵列 模板 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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