[发明专利]一种X射线多层膜反射镜的制备方法在审
申请号: | 202010433801.2 | 申请日: | 2020-05-21 |
公开(公告)号: | CN111575678A | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 李艳丽;孔祥东;韩立;姚广宇;董增雅 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电工研究所 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/06;C23C16/34;C23C16/40;G21K1/06 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 赵晓琳 |
地址: | 100190 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种X射线多层膜反射镜的制备方法,属于多层膜反射镜技术领域。本发明首先根据X射线的波长和入射角,确定X射线多层膜的周期厚度;然后确定多层膜的厚度和周期数;再利用原子层沉积法在基底表面交替沉积制备X射线多层膜反射镜。本发明制备的X射线多层膜的周期厚度小,可制备适用于波长更短的X射线多层膜反射镜;此外,制备的多层膜的粗糙度小(≤基底的粗糙度),膜间的界面清晰,多层膜反射镜的反射率高。 | ||
搜索关键词: | 一种 射线 多层 反射 制备 方法 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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