[发明专利]应用于半导体装置的高强度氧化锆-氧化铝复合陶瓷基板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202010414630.9 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN113666724A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 朱智鸿;汪睿凯 申请(专利权)人: 九豪精密陶瓷股份有限公司
主分类号: C04B35/119 分类号: C04B35/119;C04B35/622;H01L23/15
代理公司: 北京维澳专利代理有限公司 11252 代理人: 王立民;曾晨
地址: 中国台湾桃园*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提出了一种应用于半导体装置的高强度氧化锆-氧化铝复合陶瓷基板,将氧化铝、氧化锆及自制合成的添加助剂三种起始粉体,在室温下,于有机溶剂中,进行球磨混合分散,再经调制浆料步骤、除气步骤、生胚成型步骤、冲片步骤、计算步骤及烧结步骤等步骤所制得,而具备优异三点抗折强度>600MPa机械性能、热传导率>26W/mK、绝缘特性>1014Ω·cm与低表面漏电流(150℃)<200nA等热电性质者。
搜索关键词: 应用于 半导体 装置 强度 氧化锆 氧化铝 复合 陶瓷 及其 制造 方法
【主权项】:
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