[发明专利]一种用于70～100nm真空紫外波段的偏振多层膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202010399414.1 | 申请日： | 2020-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN111443418B | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 朱杰;朱忆雪;金宇;陈溢祺;冀斌;朱东风;朱运平;金长利 | 申请（专利权）人： | 苏州江泓电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;C23C14/35;C23C14/18;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙) 11589 | 代理人： | 张铁兰 |
| 地址： | 215400 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于70～100nm真空紫外波段的偏振多层膜及其制备方法，属于薄膜制备技术领域。本发明采用“亚四分之一波长”设计思想，与非周期多层膜技术相结合，实现70～100nm的真空紫外波段，能量连续可调的宽带的偏振多层膜。横向梯度多层膜与非周期多层膜是极紫外与软X射线波段范围内实现宽通带的两种方法。在极紫外与软X射线波段，横向梯度多层膜可以实现宽带可调的基础在于，所有材料的光学常数都接近于1，因此多层膜物理周期厚度约等于其光学厚度，所以当实现多层膜物理厚度在横向梯度方向上线性变化时，就实现了在横向梯度方向上光学厚度的线性变化，进而实现宽带可调，即在较高反射率前提下，实现了偏振度的提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 70 100 nm 真空 紫外 波段 偏振 多层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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