[发明专利]空穴传输层及其制作方法、钙钛矿/硅基异质结叠层太阳能电池及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202010367037.3 申请日: 2020-04-30
公开(公告)号: CN111640867A 公开(公告)日: 2020-09-08
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 苏州联诺太阳能科技有限公司
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/48;H01L27/30
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 孔令聪
地址: 215000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种空穴传输层及其制作方法、钙钛矿/硅基异质结叠层太阳能电池及其制作方法。一种空穴传输层的制作方法,空穴传输层用于钙钛矿/硅基异质结叠层太阳能电池,空穴传输层的制作方法包括如下步骤:采用原子层沉积技术在衬底上形成保护层;以及采用磁控溅射技术在保护层上形成金属氧化物层,得到空穴传输层。上述用于钙钛矿/硅基异质结叠层太阳能电池的空穴传输层的制作方法,由于采用原子层沉积技术制作保护层,采用磁控溅射技术在保护层上制作金属氧化物层,因此既可以实现低温工艺,又可以大规模生产。
搜索关键词: 空穴 传输 及其 制作方法 钙钛矿 硅基异质结叠层 太阳能电池
【主权项】:
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