[发明专利]掩膜版及其制作方法有效
| 申请号： | 202010350268.3 | 申请日： | 2020-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN111509016B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 林治明 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H10K59/35 | 分类号： | H10K59/35;H10K71/00;H10K71/16;C23C14/04 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 张晓薇 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请提出了一种掩膜版及其制作方法，该掩膜版包括外框；位于该外框的中空区内的遮光构件，包括将该中空区划分为多个第一区的第一遮光条及第二遮光条；任一该第一遮光条包括多个重复设置的第一子遮光条，一该第一子遮光条与一该第一区对应，该第一子遮光条位于在该第一方向上的相邻两个该第一区之间；该第一子遮光条包括覆盖部分该第一区的第一突出部。本申请通过在横纵交错的第一遮光条及第二遮光条上设置多个该第一子遮光条和多个第二子遮光条，使得任一该第一区对应的该第一子遮光条在对应的准位上，避免了遮光条会因拉伸而导致该第一子遮光条及该第二子遮光条的偏移，提高了产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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