[发明专利]一种用于晶体生长的防遮挡测温装置在审
| 申请号： | 202010317440.5 | 申请日： | 2020-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN111379019A | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | C30B23/00 | 分类号： | C30B23/00;C30B29/36;C30B29/40;G01J5/02 |
| 代理公司： | 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙) 23209 | 代理人： | 韩立岩 |
| 地址： | 150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种用于晶体生长的防遮挡测温装置，属于坩埚温控技术领域，本发明为了解决传统坩埚测温结构上的测温窗表面容易被遮蔽，影响测温，影响晶体生长质量的问题。坩埚上设有坩埚盖，测温法兰通过导向筒与坩埚内部连通，测温法兰内设有测温通路，测温通路顶部设有反光镜，反光镜呈45°倾斜设置，且与反光镜相对的水平方向上设有测温孔，测温通路的两侧分别通过进气导向通路和出气导向通路与进气通路和出气通路相连通，进气通路和出气通路分别与测温法兰两侧的进气口和出气口相连通。本发明的一种用于晶体生长的防遮挡测温装置改善了进气路径，优化了炉体内的流场，使测温更加准确。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 晶体生长 遮挡 测温 装置 | ||
【主权项】：
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