[发明专利]一种静电喷射微粉磨粒均布的微结构阵列原位抛光方法有效
| 申请号： | 202010316623.5 | 申请日： | 2020-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN111451847B | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 陈逢军;张肖肖;蓝承峰 | 申请（专利权）人： | 湖南大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B57/02;C09G1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 410082 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种静电喷射微粉磨粒均布的微结构阵列原位抛光方法，包括如下步骤：1.在微结构元件上均匀地喷涂一层脱模剂；2.将微结构元件安装于旋转工作台上，调节微结构元件与喷射装置的位置；3.将抛光体制备溶液喷射到微结构元件上，制备与微结构元件的空腔完全匹配的抛光体；4.调节抛光主轴与微结构元件的位置，吸附抛光体；5.往复运动抛光微结构元件。一种静电喷射微粉磨粒均布的微结构原位抛光装置包括支撑系统、工作台系统、抛光体成型系统、原位抛光系统、微结构元件、脱模剂和抛光体。本发明利用静电喷射技术直接在微结构元件腔内成型与其形状相匹配的抛光体，使用真空吸盘吸附抛光体，实现对微结构的原位抛光，获得高质量的微结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 静电 喷射 微粉磨粒均布 微结构 阵列 原位 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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