[发明专利]一种提高CVD钻石硬度的方法在审
| 申请号： | 202010260758.4 | 申请日： | 2020-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN111304750A | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 赵芬霞;刘宏明 | 申请（专利权）人： | 湖州中芯半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/02 | 分类号： | C30B33/02;C30B33/04;C30B29/04 |
| 代理公司： | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 邓凌云 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及材料科学技术领域，且公开了一种提高CVD钻石硬度的方法，包括以下步骤：S1、硬件准备并对相关硬件设施进行安装，首先准备能够发出辐照剂量达到3E19‑1E20cm^(‑2)高能粒子束的电子枪，也需要准备旋转平台和固定CVD钻石的夹具，同时把钻石夹具与旋转平台的顶端连接，之后把旋转平台和电子枪都安装在工作位置上；S2、原材料挑选，在众多大小不一的CVD钻石中挑选形状规则，大小适中的CVD钻石，并把CVD钻石固定在钻石夹具中。该提高CVD钻石硬度的方法，能够有效提高CVD钻石硬度，提高了CVD钻石工业使用时使用效果，同时能够提高CVD钻石的使用寿命，避免发生设备经常更换CVD钻石的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 cvd 钻石 硬度 方法 | ||
【主权项】：
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