[发明专利]基板处理装置和气体导入板有效
| 申请号： | 202010192194.5 | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN111370285B | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 小川裕之;大久保智也;清水昭贵 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种基板处理装置和气体导入板。在向被载置于处理容器内的晶圆供给气体时能够调整气体的浓度的面内分布。在向被载置于处理容器(20)内的晶圆(W)供给气体来进行处理的等离子体处理装置中，通过分隔部(5)将处理容器(20)内划分为激发NF |
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| 搜索关键词： | 处理 装置 气体 导入 | ||
【主权项】：
暂无信息
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