[发明专利]一种基于特征相似度的自适应聚类方法及应用有效
申请号: | 202010162913.9 | 申请日: | 2020-03-10 |
公开(公告)号: | CN111428760B | 公开(公告)日: | 2023-09-08 |
发明(设计)人: | 孙红霞;李琛;余学儒;傅豪;田畔 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司 |
主分类号: | G06V10/762 | 分类号: | G06V10/762;G06V10/74;G06V10/764;G06V10/82;G06N3/0455;G06N3/09 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;马盼 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种基于特征相似度的自适应聚类方法,包括如下步骤:S01:设置初始深度学习参数,提取样品特征;S02:设置初始聚类数k以及步长x,以此确定m个聚类数;S03:对样品特征进行聚类;S04:针对每一组聚类结果,计算其对应的聚类效果函数值f(p);S05:根据最大聚类数对应的聚类效果函数值梯度,确定新的聚类数k’;S06:重复步骤S03‑S05,直至最大聚类数对应的聚类效果函数值梯度小于梯度阈值,记录当前聚类效果函数值f(k’);S07:调整深度学习参数,重复步骤S02‑S06n次,选择使当前聚类效果函数值f(k’)最大的深度学习参数和聚类数;并得出其对应的聚类结果。本发明能够更精细准确的对样品特征进行聚类,有利于发现更多导致白色像素的原因。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 特征 相似 自适应 方法 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海集成电路研发中心有限公司,未经上海集成电路研发中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010162913.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。