[发明专利]基于光学相干层析成像不均匀性评估的微区分析方法有效
| 申请号： | 202010150834.6 | 申请日： | 2020-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN111289490B | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 董俊卿;李青会;刘松 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;G01N21/45;G01N23/04;G01N23/041;G01N23/223 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种基于光学相干层析成像不均匀性评估的微区分析方法，采用扫频光学相干层析成像仪，在透明和半透明的玻璃、陶瓷及宝玉石等无机材料及其工艺品上进行二维和三维扫描，根据非均质材料对光的吸收和散射的差异，确定瓷釉和玻璃中的析晶或未熔融原料以及宝玉石中的包裹体等异质颗粒的位置，对其表面和亚表面均匀性和表面风化程度进行评估。根据研究目的准确确定玻璃、陶瓷和宝玉石合适的微区分析区域，为精确定性和定量分析提供科学依据。本发明方法节约时间，提高了分析效率，可广泛应用于透明和半透明材料表面及亚表面的化学成分和物相等微区表征、工艺检测等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 光学 相干 层析 成像 不均匀 评估 区分 方法 | ||
【主权项】：
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