[发明专利]清洗方法及清洗设备有效
| 申请号： | 202010145267.5 | 申请日： | 2020-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN113351566B | 公开（公告）日： | 2023-02-17 |
| 发明（设计）人： | 许青波;陈兵录;张少华 | 申请（专利权）人： | 苏州能讯高能半导体有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00;F26B21/00;C23G3/00 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 孙海杰 |
| 地址： | 215300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种清洗方法及清洗设备，涉及半导体技术领域，所述清洗方法包括如下步骤：将多个待清洗件转移至盛放槽内，其中，所述盛放槽上设置有连通其内壁和外壁的导流孔；将盛放槽放置到装有反应清洗液的溶液槽内，且反应清洗液能够流入到所述盛放槽内；将盛放槽从反应清洗液内取出。在整个过程中，多个待清洗件可以一同被放入到反应清洗液中，也可以一同从反应清洗液中取出，相比于现有技术中逐一的放置/取出待清洗件而言，本发明实施例提供的清洗方法的使用的时间更短，清洗的效率更高。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 设备 | ||
【主权项】：
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